Adhesion of Rhodococcus sp. S3E2 and Rhodococcus sp. S3E3 to plasma prepared Teflon-like and organosilicon surfaces
Název česky | Adheze Rhodococcus SP.S3E2 and Rhodococcus SP.S3E3 k plazmatem připravenému teflonu podobnému povrchu a organosilikonovým povrchům |
---|---|
Autoři | |
Rok publikování | 2008 |
Druh | Článek v odborném periodiku |
Časopis / Zdroj | Journal of Materials Processing Technology |
Fakulta / Pracoviště MU | |
Citace | LEHOCKÝ, Marian, Pavel SŤAHEL, Marek KOUTNÝ, Jan ČECH, Jakub INSTITORIS a Aleš MRÁČEK. Adhesion of Rhodococcus sp. S3E2 and Rhodococcus sp. S3E3 to plasma prepared Teflon-like and organosilicon surfaces. Journal of Materials Processing Technology. Elsevier B.V., 2008, roč. 209, č. 6, s. 2871–2875. ISSN 0924-0136. |
Obor | Fyzika plazmatu a výboje v plynech |
Klíčová slova | Rhodococcus; Plasma deposition; Cell adhesion; Barrier discharge; Thin films |
Popis | Studium adheze Rhodococcus SP.S3E2 and Rhodococcus SP.S3E3 k hydrofobním teflonu podobným vrstvám a organosilikonovým vrstvám deponovaným na papír. |
Související projekty: |